Автор туралы ақпарат
Ковальский, В. А.
| Шығарылым | Бөлім | Атауы | Файл |
| № 4 (2024) | Articles | Study of SiO2 films implanted with 64Zn+ ions and oxidized at elevated temperatures |
Пайдаланушы
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
X-ray diffraction
X-ray photoelectron spectroscopy
atomic force microscopy
density functional theory
electron microscopy
electronic structure
ion implantation
irradiation
magnetron sputtering
microstructure
nanoparticles
neutron reflectometry
phase composition
scanning electron microscopy
silicon
structure
surface
surface morphology
synchrotron radiation
thin films
zinc oxide
Ағымдағы шығарылым
№ 11 (2024)
×
Пайдаланушы
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
X-ray diffraction
X-ray photoelectron spectroscopy
atomic force microscopy
density functional theory
electron microscopy
electronic structure
ion implantation
irradiation
magnetron sputtering
microstructure
nanoparticles
neutron reflectometry
phase composition
scanning electron microscopy
silicon
structure
surface
surface morphology
synchrotron radiation
thin films
zinc oxide
Ағымдағы шығарылым