Informaçao sobre o Autor
Горнев, Е. С.
| Edição | Seção | Título | Arquivo |
| Volume 54, Nº 1 (2025) | ЛИТОГРАФИЯ | Investigation of double patterning method with the usage of antispacer |
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Palavras-chave
Förster effect
bipolar transistor
charge qubit
etching
fluorine atoms
fluorocarbon gases
gas temperature
kinetics
magnetron sputtering
mechanism
memristor
modeling
molecular beam epitaxy
plasma
polymerization
quantum dot
radiation intensity
reduced electric field strength
resistive switching
silicon
specific power
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Volume 54, Nº 1 (2025)
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Förster effect
bipolar transistor
charge qubit
etching
fluorine atoms
fluorocarbon gases
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polymerization
quantum dot
radiation intensity
reduced electric field strength
resistive switching
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